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本設備為桌面型石英腔體單靶磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備。
本套配置采用石英真空腔體，鍍膜過程全向可視，便于實驗的觀察記錄，腔體設計開啟方便，易于清理，十分適合實驗室使用。同時設備配有旋轉加熱樣品臺，可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質量。整機采用模塊化設計，操作邏輯簡單，操作界面直觀，利于上手
技術參數：
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產品名稱 |
小型臺式單靶磁控濺射鍍膜儀 |
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產品型號 |
CY-MSZ180-I-DC-Q |
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樣品臺 |
外形尺寸 |
φ100mm |
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震動頻率 |
20Hz-20000Hz |
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磁控靶槍 |
配一支兩英寸磁控靶，靶材尺寸:直徑50mm，厚度≦3mm |
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真空腔體 |
腔體尺寸 |
φ180mm X 200mm |
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觀察窗口 |
全向透明 |
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腔體材料 |
高純石英 |
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開啟方式 |
上蓋拆卸式 |
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真空系統 |
前級泵 |
低噪音雙極旋片泵 |
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分子泵 |
低噪音大抽速渦輪分子泵 |
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真空測量 |
復合真空計，量程:10-5~105Pa |
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抽氣接口 |
KF40 |
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排氣接口 |
KF16 |
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系統真空 |
1.0×10-4Pa |
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供電電源 |
AC 220V 50/60Hz |
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抽氣速率 |
分子泵抽速600L/s，前級泵抽速1.1L/s |
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電源配置 |
電源數量 |
直流電源一套 |
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輸出功率 |
300W |
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其他參數 |
供電電壓 |
AC220V,50Hz |
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整機功率 |
2kW |
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整機尺寸 |
550mm X 350mm X1200mm |
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